用于在等离子体处理期间支撑工件的设备和方法

摘要

本发明涉及用于在等离子体处理期间支撑工件的设备和方法。具体地，提供用于在等离子体处理系统的处理空间内同时支撑多个工件的设备和方法，用于同时进行双侧等离子体处理。该设备可以是如下固定件，该固定件具有构造成被支撑在处理空间内的承载板和延伸该承载板的厚度的多个第一开口。该承载板被构造成在每个工件的外周边缘处的环形区域上接触每个工件，使得每个工件的第一侧和第二侧通过所述多个第一开口中的相应一个而暴露于等离子体。

主权项

一种用于在等离子体室内支撑多个工件的设备，用于利用等离子体同时干法蚀刻所述工件的第一侧和第二侧，所述设备包括：固定件，所述固定件构造成被支撑在处理空间内，所述固定件包括承载板和延伸穿过所述承载板的厚度的多个第一开口，所述承载板被构造成在外周边缘处在环形区域上接触每个工件，使得每个工件的所述第一侧和第二侧基本上全部暴露于等离子体。