发明名称 |
存储单元阵列及其制造方法 |
摘要 |
本发明提供了一种半导体存储单元阵列及其制造方法,其中在基底上形成多个位线扩散,并且在所述位线扩散之间形成存储单元,各对单元具有相邻于所述位线扩散的第一和第二导体、在所述第一和第二导体旁边的浮置栅极、在所述浮置栅极之间的擦除栅极、和在所述擦除栅极下面的基底内的源极线扩散,和电容耦合到所述浮置栅极的至少一个附加导体。在一些公开的实施例中,相邻于所述位线扩散的导体是字线,并且附加导体由耦合到浮置栅极对应之一的耦合栅极对或者耦合到两个浮置栅极的单耦合栅极组成。在另一实施例中,相邻于所述位线扩散的导体是编程线,并且第三导体是在垂直于所述编程线和所述扩散方向上延伸的字线。 |
申请公布号 |
CN101068020B |
申请公布日期 |
2011.01.12 |
申请号 |
CN200710096024.1 |
申请日期 |
2007.04.10 |
申请人 |
西利康存储技术股份有限公司 |
发明人 |
陈邦明;普拉蒂普·滕塔苏德;范德慈 |
分类号 |
H01L27/115(2006.01)I;H01L23/522(2006.01)I;H01L21/8247(2006.01)I;H01L21/768(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/115(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
陶凤波 |
主权项 |
一种存储单元阵列,包括:基底、在所述基底中的第一和第二位线扩散、相邻于所述位线扩散的第一和第二字线、在所述位线扩散之间的中间的基底中的源极线扩散、在所述源极线扩散上方的擦除栅极、设置在所述字线和擦除栅极之间且具有高于所述字线和擦除栅极的高度的第一和第二浮置栅极、覆盖所述浮置栅极以及所述字线和擦除栅极的边缘部的耦合栅极、在垂直于所述字线的方向上延伸的位线、和互连所述位线扩散和所述位线的位线接触。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |