发明名称 |
与真空环境相适应的气体压力计 |
摘要 |
在本发明的一个实施例中,提供一种用于真空环境中的气体压力计,其具有测量气流通道。所述气体压力计包括:在测量气流通道中的测量喷嘴。所述测量喷嘴配置成在来源于连接到所述测量气流通道的气体源的体积流动的音速阻扼流动条件下操作。气体压力计还包括压力传感器,其可操作地连接到测量气流通道、在所述体积流动的音速阻扼流动条件的下游,以便测量所述体积流动的压差,用于提供对所述测量喷嘴的末端和与其邻近的目标表面之间的间隙的指示。 |
申请公布号 |
CN101946155A |
申请公布日期 |
2011.01.12 |
申请号 |
CN200980105882.5 |
申请日期 |
2009.02.17 |
申请人 |
ASML控股股份有限公司 |
发明人 |
G·A·斯库尔特兹 |
分类号 |
G01B13/12(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G01B13/12(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
王波波 |
主权项 |
一种用于真空环境中的气体压力计,具有测量气流通道,所述气体压力计包括:在测量气流通道中的测量喷嘴,所述测量喷嘴配置成在来源于连接到所述测量气流通道的气体源的体积流动的音速阻扼流动条件下操作;和压力传感器,其可操作地连接到测量气流通道、在所述体积流动的音速阻扼流动条件的下游,以便测量所述体积流动的压差,用于提供对所述测量喷嘴的末端和与其邻近的目标表面之间的间隙的指示。 |
地址 |
荷兰维德霍温 |