真空溅射镀膜设备

摘要

本实用新型公开了一种真空溅射镀膜设备，涉及真空溅射镀膜设备技术领域，特别是涉及对真空溅射镀膜设备中连接管的结构改造。包括真空测量装置、箱体、真空腔体，箱体内包裹有真空腔体，其特征在于：还包括连接管，所述连接管的一端通过箱体与真空腔体贯通连接，所述连接管的另一端向上弯曲与真空测量装置相连接。所述真空测量装置可以为真空计。本实用新型解决了现有技术真空溅射镀膜设备中，与真空测量装置连接的连接管为水平结构，靶材溅射时，中性的靶原子(或分子)容易通过连接管沉积于真空测量装置中的问题，本实用新型提供了一种新型连接管，在连接管上设计一个弯头结构、延长了管道，使飞溅的靶原子(或分子)不能直接沉积于真空测量装置中。

主权项

一种真空溅射镀膜设备，包括真空测量装置、箱体、真空腔体，箱体内包裹有真空腔体，其特征在于：还包括连接管，所述连接管的一端通过箱体与真空腔体贯通连接，所述连接管的另一端向上弯曲与真空测量装置相连接。