| 主权项 |
一种测量设备，其改良在于：该测量设备包括二接触式测量装置及一控制器，该二接触式测量装置均包括测量头及感测该测量头位移之感测器，且该二接触式测量装置之测量头相互对准，该控制器与二接触式测量装置之感测器分别电连接，该接触式测量装置上设有至少一用于驱动该测量头之驱动气缸；该驱动气缸上设有将吹入该驱动气缸内之气体排出一部分而保持该驱动气缸较小驱动压力之排气机构。如申请专利范围第1项所述之测量设备，其中该接触式测量装置还包括一与测量头相连之光学尺，感测器读取该光学尺之刻度以测定测量头位移。如申请专利范围第1项所述之测量设备，其中该接触式测量装置上设有至少一驱动气缸，该驱动气缸之外侧壁设置有至少一气体导管，该气体导管之延伸方向与驱动气缸轴线之夹角大于0度且小于90度，向气体导管内吹入之气体作用于驱动气缸之外侧壁上，从而推动驱动气缸带动测量头运动，吹入之气体部分排出从而保持该驱动气缸较小之驱动压力。如申请专利范围第1或3项所述之测量设备，其中该接触式测量装置还包括至少一导引块，导引块上设有导引孔，驱动气缸穿插于该导引孔内，该导引块上均匀设置有用于吹入气体之气体导管，该气体导管与导引孔相通，该驱动气缸之外侧壁与该导引块间存在间隙，向气体导管内吹入气体使驱动气缸之外侧壁与导引块之间形成空气轴承。如申请专利范围第4项所述之测量设备，其中该驱动气缸与用于向该驱动气缸内吹入气体之吹气管之间形成有空气轴承。如申请专利范围第4项所述之测量设备，其中该导引块上设有相互平行之二导引孔，二驱动气缸分别插入该二导引孔中并排设置。如申请专利范围第4项所述之测量设备，其中该接触式测量装置还包括基座，该基座用于固定及支撑上述各构成元件。如申请专利范围第4项所述之测量设备，其中该接触式测量装置还包括罩体，该罩体可防止外部之灰尘等异物进入。如申请专利范围第1项所述之测量设备，其中该接触式测量装置包括二驱动气缸，该驱动气缸相互平行且错开一定距离设置。 |
