| 主权项 |
一种雷射测量仪，包含：一底座单元；一外壳，安装于该底座单元，且包括一顶面、一自该顶面的一侧朝下延伸的第一平面、一位于该第一平面外侧的第二平面、一自该第一平面朝外延伸并连接于该第二平面的围绕面，及二位于该围绕面且彼此夹一夹角的投射窗口；一支撑单元，安装于该外壳内，包括一连接该底座单元的支撑架，及一连接于该支撑架的本体件；及一雷射投射单元，包括二安装于该本体件并相对该等投射窗口设置的雷射头、二相对该等雷射头设置的活动件，及复数分别连接相对应的该等雷射头及该等活动件以调整该等活动件相对该等雷射头的角度的调整杆。根据申请专利范围第1项所述之雷射测量仪，其中，该雷射投射单元还包括四分别设置于相对应该等雷射头及该等活动件之间的顶珠，每一顶珠位于相邻的二调整杆之间。根据申请专利范围第1项所述之雷射测量仪，其中，该本体件具有二对应供该等雷射头安装的穿孔，每一雷射头具有一穿设于相对应穿孔的穿设杆部、一供相对应活动件设置的安装部，及一环绕该穿设杆部的环圈部。根据申请专利范围第3项所述之雷射测量仪，其中，该本体件还具有四分别垂直相对应的该等穿孔的第一螺孔，该支撑单元还包括四螺锁于该等第一螺孔中的第一螺杆，该等第一螺孔是以两个一组的方式位于该本体件的两侧，每一组第一螺孔设置于相对应的穿孔并分别位于该环圈部的两侧。根据申请专利范围第4项所述之雷射测量仪，其中，该本体件还具有一底面、二分别自该底面两侧朝外且朝上延伸的斜面，及四分别垂直相对应的该等穿孔并与该等第一螺孔的延伸方向不同的第二螺孔，该支撑单元还包括四螺锁于该等第二螺孔中的第二螺杆，该等第二螺孔是以两个一组的方式位于该等斜面，每一组第二螺孔设置于相对应的穿孔并分别位于该环圈部的两侧。根据申请专利范围第5项所述之雷射测量仪，其中，该雷射投射单元还包括二分别设置于该等雷射头以反射雷射光源的反射件，及二分别设置于该等活动件并投射出扇形光束的光棒。根据申请专利范围第3项所述之雷射测量仪，其中，每一安装部及相对应活动件于安装后沿垂直相对应穿设杆部的径向截面实质上为圆形。一种雷射测量仪，包含：一底座单元；一外壳，安装于该底座单元；一支撑单元，安装于该外壳内，包括一连接该底座单元的支撑架，及一连接于该支撑架的本体件；及一雷射投射单元，包括至少一安装于该本体件的雷射头、至少一相对该雷射头设置的活动件、复数分别连接该雷射头及该活动件以调整该活动件相对该雷射头的角度的调整杆，及复数分别设置于相对应该雷射头及该活动件之间的顶珠，每一顶珠位于相邻的二调整杆之间。根据申请专利范围第8项所述之雷射测量仪，其中，该本体件具有至少一供该雷射头安装的穿孔，该雷射头具有一穿设于该穿孔的穿设杆部、一供该活动件设置的安装部，及一环绕该穿设杆部的环圈部。根据申请专利范围第9项所述之雷射测量仪，其中，该本体件还具有复数分别垂直该穿孔的第一螺孔，该支撑单元还包括复数螺锁于该等第一螺孔中的第一螺杆，该等第一螺孔是以两个一组的方式位于该本体件的侧面，每一组第一螺孔分别位于该环圈部的两侧。根据申请专利范围第10项所述之雷射测量仪，其中，该本体件还具有一底面、至少一自该底面朝外且朝上延伸的斜面，及复数分别垂直该穿孔并与该等第一螺孔的延伸方向不同的第二螺孔，该支撑单元还包括复数螺锁于该等第二螺孔中的第二螺杆，该等第二螺孔是以两个一组的方式位于该斜面，每一组第二螺孔分别位于该环圈部的两侧。根据申请专利范围第11项所述之雷射测量仪，其中，该雷射投射单元还包括至少一设置于该雷射头以反射雷射光源的反射件，及至少一设置于该活动件并投射出扇形光束的光棒。根据申请专利范围第9项所述之雷射测量仪，其中，该安装部及该活动件于安装后沿垂直该穿设杆部的径向截面实质上为圆形。一种雷射测量仪，包含：一底座单元；一外壳，安装于该底座单元；一支撑单元，安装于该外壳内，包括一连接该底座单元的支撑架，及一连接于该支撑架的本体件，该本体件具有至少一穿孔；及一雷射投射单元，包括至少一安装于该穿孔的雷射头，该雷射头具有一穿设于该穿孔的穿设杆部，及一环绕该穿设杆部的环圈部。根据申请专利范围第14项所述之雷射测量仪，其中，该本体件还具有复数分别垂直该穿孔的第一螺孔，该支撑单元还包括复数螺锁于该等第一螺孔中的第一螺杆，该等第一螺孔是以两个一组的方式位于该本体件的侧面，每一组第一螺孔分别位于该环圈部的两侧。根据申请专利范围第15项所述之雷射测量仪，其中，该本体件还具有一底面、至少一自该底面朝外且朝上延伸的斜面，及复数分别垂直该穿孔并与该等第一螺孔的延伸方向不同的第二螺孔，该支撑单元还包括复数螺锁于该等第二螺孔中的第二螺杆，该等第二螺孔是以两个一组的方式位于该斜面，每一组第二螺孔分别位于该环圈部的两侧。 |
