| 主权项 |
一种浮上式基板搬送处理装置，系具备，从表面进行气体的喷射及吸引，使被处理基板浮上之浮上台座；配置于上述浮上台座的上方，并将处理液供应至上述被处理基板的表面之处理液供应机构；及可各自将上述被处理基板的两侧端加以安装及脱离地保持，并且使被处理基板于上述浮上台座上移动之移动机构，其特征为：上述浮上台座系具备，由设置有多数个大径孔之表面板；于与该表面板的下面之间形成第1空间而配设，并设置有位于上述大径孔的正下方之小径孔之中间板；及于与该中间板的下面之间形成第2空间而配设之下部板所组成之台座主体；以及具有整齐排列的多数个小孔，并于嵌合于上述大径孔之大径头部的下部上，具有以气密方式嵌合于上述小径孔之脚部之多孔体；将气体供应机构连接于上述第1及第2空间当中任一边，并将吸引机构连接于另一边而组成。一种浮上式基板搬送处理方法，系使用如申请专利范围第1项所记载的浮上式基板搬送处理装置之浮上式基板搬送处理方法，其特征为：经由形成浮上台座的第1空间或第2空间来利用多孔板的多数个小孔供给受到压力损失而被分散的气体，且从多孔板的多数个小孔经由上述第1空间或第2空间来吸引，而使被处理基板浮起于浮上台座上，从处理液供给机构带状地供给处理液至上述被处理基板的表面，且藉由移动机构来移动被处理基板。 |
