| 发明名称 |
METHOD FOR PRODUCING SILICON OXIDE FILM, CONTROL PROGRAM THEREOF, RECORDING MEDIUM AND PLASMA PROCESSING APPARATUS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1865548(A4) |
申请公布日期 |
2011.01.05 |
| 申请号 |
EP20060730231 |
申请日期 |
2006.03.28 |
| 申请人 |
TOKYO ELECTRON LIMITED |
发明人 |
KITAGAWA, JUNICHI;FURUI, SHINGO |
| 分类号 |
H01L21/316;H01L21/31;H01L21/76 |
主分类号 |
H01L21/316 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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