用于等离子体反应器的气体分布板组件

摘要

一种阻隔板组件，其用于使气体流动分布进入包含有将被进行处理之半导体晶片的相邻处理容室之中，该阻隔板组件包括有：具有多个小孔于其中之平面的气体分布部分；环绕着气体分布部分的凸缘；以及被置中地附接至气体分布部分的冲击装置，其中，该装置包括有盖子以及柄杆，该柄杆与气体分布部分相热接触。本文中还公开了利用阻隔板组件的等离子体反应器，以及用于降低在等离子体中之物质重组的方法。

主权项

一种阻隔板组件，其用于使气体流动分布进入包含有将被进行处理的半导体晶片的相邻处理容室之中，所述阻隔板组件包括有：平面的气体分布部分，其具有多个小孔位于其中；凸缘，其环绕着所述气体分布部分；以及冲击装置，其被置中地附接至所述气体分布部分，其中，所述装置包括有盖子以及柄杆，所述柄杆与所述气体分布部分相热接触。