发明名称 |
存储器单元、形成存储器单元的方法及形成经编程的存储器单元的方法 |
摘要 |
在一些实施例中,一种存储器单元包括:晶体管栅极,其通过栅极电介质而与沟道区域间隔;源极区域,其位于所述沟道区域的一侧上;及漏极区域,其位于所述沟道区域的与源极区域相反的一侧上。所述沟道区域具有邻近于漏极区域的相变材料。在一些实施例中,所述相变材料可邻近于源极区域与漏极区域两者。一些实施例包括对具有邻近于漏极区域的相变材料的存储器单元进行编程的方法。反转层邻近于栅极电介质而形成于沟道区域内,其中所述反转层在邻近于漏极区域的相变材料内具有夹断区域。利用所述夹断区域内的热载流子(例如,电子)来改变相变材料内的相位。 |
申请公布号 |
CN101939836A |
申请公布日期 |
2011.01.05 |
申请号 |
CN200980104176.9 |
申请日期 |
2009.01.15 |
申请人 |
美光科技公司 |
发明人 |
刘峻 |
分类号 |
H01L27/108(2006.01)I;H01L21/8242(2006.01)I;H01L21/82(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/108(2006.01)I |
代理机构 |
北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 |
代理人 |
沈锦华 |
主权项 |
一种对存储器单元进行编程的方法,其包含:提供含有晶体管的存储器单元;所述晶体管包括通过栅极电介质而与沟道区域间隔的晶体管栅极,包括位于所述沟道区域的一侧上的第一源极/漏极区域,且包括位于所述沟道区域的与所述第一源极/漏极区域相反的一侧上的第二源极/漏极区域;将所述第一源极/漏极区域用作源极且将所述第二源极/漏极区域用作漏极以引发所述存储器单元的一种存储器状态;以及将所述第二源极/漏极区域用作源极且将所述第一源极/漏极区域用作漏极以引发所述存储器单元的另一种存储器状态。 |
地址 |
美国爱达荷州 |