发明名称 | 气体的在位测量装置 | ||
摘要 | 本实用新型涉及气体的在位测量装置,特点是:所述装置包括激光器,输出光的频率对应待测气体的吸收谱线:吸收谱线I、吸收谱线II;在单位浓度单位光程下,在吸收谱线I处,被测气体和吹扫气体的温度差引起被测气体内待测气体的吸收不低于吹扫气体内待测气体的吸收的5倍;探测器,用于接收穿过吹扫气体、被测气体后的对应于吸收谱线I的测量光,或穿过待测气体标气后的对应于吸收谱线II的标定光;分析单元,用于根据探测器的信号得到被测气体内待测气体的含量;吹扫单元,用于提供气体去吹扫被测气体区域外的测量光路,吹扫气体中含有待测气体;标定单元,包括待测气体的标气。本实用新型具有测量精度高、成本低等优点。 | ||
申请公布号 | CN201697876U | 申请公布日期 | 2011.01.05 |
申请号 | CN201020254094.2 | 申请日期 | 2010.07.03 |
申请人 | 聚光科技(杭州)股份有限公司 | 发明人 | 黄伟;顾海涛 |
分类号 | G01N21/39(2006.01)I | 主分类号 | G01N21/39(2006.01)I |
代理机构 | 代理人 | ||
主权项 | 气体的在位测量装置,其特征在于:所述装置包括:激光器,输出光的频率对应待测气体的吸收谱线:吸收谱线I、吸收谱线II;在单位浓度单位光程下,在吸收谱线I处,被测气体和吹扫气体的温度差引起被测气体内待测气体的吸收不低于吹扫气体内待测气体的吸收的5倍;探测器,用于接收穿过吹扫气体、被测气体后的对应于吸收谱线I的测量光,或穿过待测气体标气后的对应于吸收谱线II的标定光;分析单元,用于根据探测器的信号得到被测气体内待测气体的含量;吹扫单元,用于提供气体去吹扫被测气体区域外的测量光路,吹扫气体中含有待测气体;标定单元,包括待测气体的标气。 | ||
地址 | 310052 浙江省杭州市滨江区滨安路760号 |