| 发明名称 |
匀场框架位置校正方法和装置 |
| 摘要 |
本发明公开了一种匀场框架位置校正方法，包括：A、进行激光灯定位，并将病床(PTAB)移动到所认为的中心位置；B、测量得到所需图像，并根据测量得到的图像确定所述PTAB偏离实际中心位置的距离和方向；按照确定出的距离和方向移动所述PTAB。本发明同时公开了一种匀场框架位置校正装置。应用本发明所述的方法和装置，能够提高匀场框架的位置精度，从而提高成像质量，且易于实现。 |
| 申请公布号 |
CN101936706A |
申请公布日期 |
2011.01.05 |
| 申请号 |
CN200910148476.9 |
申请日期 |
2009.06.30 |
| 申请人 |
西门子迈迪特(深圳)磁共振有限公司 |
发明人 |
贺强;廖然;陈进军 |
| 分类号 |
G01B11/00(2006.01)I;G01R33/387(2006.01)I |
主分类号 |
G01B11/00(2006.01)I |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
一种匀场框架位置校正方法，该方法包括：A、将病床移动到所认为的中心位置；B、测量得到所需图像，根据测量得到的图像确定所述病床偏离实际中心位置的距离和方向，并向实际中心位置移动所述病床。 |
| 地址 |
518057 广东省深圳市高新区中区高新中二道西门子磁共振园 |
