抛光设备

摘要

抛光设备(1)具有抛光垫(22)、用于夹持半导体晶片(W)的顶环(20)、可操作地沿垂直方向移动顶环(20)的垂直运动机构(24)、当顶环(20)的下表面接触抛光垫(22)时可操作地检测顶环(20)的距离测量传感器(46)、可操作地基于距离测量传感器(46)检测到的位置计算顶环(20)抛光半导体晶片(W)的最佳位置的控制器(47)。垂直运动机构(24)包括可操作地将顶环(20)移动到最佳位置的滚珠丝杆机构(30，32，38，42)。

主权项

一种顶环，用于夹持衬底并且朝向抛光台上的抛光垫的抛光表面挤压衬底，所述顶环包括：设计成朝向所述抛光表面挤压衬底的顶环主体；和设计成挤压所述抛光表面的卡环，所述卡环设置在所述顶环主体的周边部分处；所述卡环包括：弹性隔膜，成形为在其中形成压力室，所述弹性隔膜可沿垂直方向膨胀和收缩，同时朝所述抛光表面挤压所述衬底，用于将所述弹性隔膜固定到所述顶环主体的夹持器，所述夹持器具有一通道，所述压力室通过该通道与流体供给源连通，和环形构件，将被其中供应以加压流体的压力室挤压在抛光表面上，所述环形构件可独立于所述顶环主体沿着垂直方向移动。