发明名称 等离子反应器
摘要 本发明提供了一种等离子化学反应器。所述的反应器包括一个空腔,一个阴极装置和一块挡板。所述的空腔提供了一个等离子反应的空间。所述的阴极装置包括一个阴极支撑杆和一个基托。所述的阴极支撑杆一端与空腔的一个壁面连接,另一端与基托连接。所述的基托用于支撑基板。所述的挡板从外面插入基托并与之连接,挡板上间隔地设有多个穿过挡板的穿孔用来排放反应气体,这些穿孔是不均匀设置的,其中在阴极支撑杆顶侧处的一个穿孔面积要大于远离阴极支撑杆一侧处的一个穿孔面积。
申请公布号 CN101577216B 申请公布日期 2011.01.05
申请号 CN200910133994.3 申请日期 2009.04.22
申请人 显示器生产服务株式会社 发明人 朴根周;高诚庸;蔡焕国;金起铉;李元默
分类号 H01L21/00(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I;H01L21/311(2006.01)I;C23F4/00(2006.01)I;H05H1/24(2006.01)I 主分类号 H01L21/00(2006.01)I
代理机构 广州弘邦专利商标事务所有限公司 44236 代理人 张钇斌
主权项 一种等离子反应器,包括:一个为等离子反应提供空间的空腔;一个阴极装置,它包括一个阴极支撑杆和一个基托,所述的阴极支撑杆一端与空腔的一个壁面连接,另一端与基托连接,所述的基托用于支撑基板,这样便于在空腔内中心的位置处设置一块基板;并且一块挡板从外面插入基托并与之连接,这样将空腔的一个反应空间分隔成上部和下部,挡板上间隔地设有多个穿过挡板的穿孔用来排放反应气体,这些穿孔是不均匀设置的,其中在阴极支撑杆顶侧处的穿孔面积要大于远离阴极支撑杆一侧处的穿孔面积。
地址 韩国京畿道水原市灵通区灵通洞958-1番地梦帕大厦4层
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