| 主权项 |
一种喷涂用光阻组成物，其为于基板上以喷涂形成光阻膜之方法所使用的光阻组成物中，其特征为，该光阻组成物含有改性矽氧烷系表面活性剂及光阻成份，该光阻成份为，含有(A)活性光线或放射线照射下会产生酸之化合物，及(B)酸作用下对硷可增加溶解性之树脂，又，(A)成份之添加量对(B)成份100质量份为0.1至20质量份之化学加强型正型光阻；含有(A)活性光线或放射线照射下会产生酸之化合物、(B’)酚醛清漆树脂、(C’)可塑剂及(E)交联剂，又，对(A)、(B’)、(C’)及(E)成份之总和100质量份，(A)成份之添加量为0.01至10质量份，(B’)成份之添加量为50至95质量份，(C’)成份之添加量为5至30质量份，(E)成份之添加量为1至30质量份之化学加强型负型光阻；或，含有(A)活性光线或放射线照射下会产生酸之化合物、(B”)具有α-(羟基烷基)丙烯酸，或α-(羟基烷基)丙烯酸之低级烷基酯中所选至少1种所衍生之单位的硷可溶性树脂，及(E)交联剂，又，(A)成份相对于(B”)成份与(E)成份之总和100质量份，(A)成份之添加量为0.01至10质量份，相对于(B’)成份100质量份，(E)成份之添加量为1至50质量份之负型光阻。如申请专利范围第1项之喷涂用光阻组成物，其中基板之被涂布面设置阶段部。一种层合物，其为被涂布面设置段差10至1,000μm之阶段部的基板上，形成有申请专利范围第1项之光阻组成物所得光阻膜的层合物，其特征为前述光阻膜系连续被覆于前述阶段部之上面及侧面，且前述光阻膜中之前述阶段部之上面的膜厚为1至40μm，前述阶段部之上面与侧面之境界部的膜厚为邻接该境界部之上面膜厚的75%以上。如申请专利范围第3项之层合物，其中前述阶段部之上面与侧面所形成的角度为90°以上、未达180°。 |
