| 主权项 |
一种修复包括有黑色矩阵之显示器装置的亮像素缺陷的方法，包含以下步骤：以雷射在一具有一亮像素缺陷的彩色滤光片上或是在该彩色滤光片与一玻璃之间形成一间隙；以雷射分解该彩色滤光片周围的黑色矩阵；使该已分解的黑色矩阵扩散到该间隙中；及其中在执行该形成间隙的步骤、该分解黑色矩阵的步骤和扩散该已分解之黑色矩阵的步骤时，该彩色滤光片的光穿透度会下降。如申请专利范围第1项所述之方法，其中该显示器装置上没有偏光板，且该彩色滤光片是一红光(R)区域，以波长在270~550 nm间的雷射来实施该形成间隙的步骤。如申请专利范围第1项所述之方法，其中该显示器装置上没有偏光板，且该彩色滤光片是一绿光(G)区域，以波长在270~480 nm间或是600~750 nm间的雷射来实施该形成间隙的步骤。如申请专利范围第1项所述之方法，其中该显示器装置上没有偏光板，且该彩色滤光片是一蓝光(B)区域，以波长在270~390 nm间或是520~750 nm间的雷射来实施该形成间隙的步骤。如申请专利范围第1项所述之方法，其中该显示器装置上有一偏光板，且该彩色滤光片是一红光(R)区域，以波长在400~550 nm间的雷射来实施该形成间隙的步骤。如申请专利范围第1项所述之方法，其中该显示器装置上有一偏光板，且该彩色滤光片是一绿光(G)区域，以波长在400~480 nm间或是600~750 nm间的雷射来实施该形成间隙的步骤。如申请专利范围第1项所述之方法，其中该显示器装置上有一偏光板，且该彩色滤光片是一蓝光(B)区域，以波长在520~750 nm间的雷射来实施该形成间隙的步骤。如申请专利范围第1项所述之方法，其中在该形成间隙的步骤中，该雷射的脉冲期间为100 ns或更小。如申请专利范围第1项所述之方法，其中在该形成间隙的步骤中，该雷射具有介于约1 Hz至1 kHz间的重复频率。如申请专利范围第1项所述之方法，其中当该显示器没有覆盖层(overcoat layer)时，在该形成间隙的步骤中，该雷射的脉冲期间为50 ns或更小。如申请专利范围第1项所述之方法，其中当该显示器没有覆盖层(overcoat layer)时，在该形成间隙的步骤中，该雷射具有介于约1 Hz至1 kHz间的重复频率。如申请专利范围第1项所述之方法，其中当该显示器没有覆盖层(overcoat layer)时，在该形成间隙的步骤中，该雷射的功率约为10 mW或更小。如申请专利范围第1项所述之方法，更包含以下步骤：在该形成间隙的步骤中，调整雷射的强度。如申请专利范围第1项所述之方法，其中在该形成间隙的步骤中，该雷射具有一平坦顶部的波形。如申请专利范围第1项所述之方法，其中在该形成间隙的步骤中，该间隙的厚度约相当于该彩色滤光片厚度的20%~90%。如申请专利范围第1项所述之方法，其中在该形成间隙的步骤中是以至少一种选自下列的雷射来创造出来所用的雷射，包括：镱(Ytterbium)雷射、钛-蓝宝石雷射、Nd：YLF雷射、Nd：玻璃雷射、Nd：钒酸盐(YV04)雷射、Nd：YAG雷射、纤维雷射和染料雷射。如申请专利范围第1项所述之方法，其中当该黑色矩阵含有一金属成分时，在该分解黑色矩阵的步骤中，该雷射的脉冲期间为50 ns或更小。如申请专利范围第1项所述之方法，其中当该显示装置上没有一偏光板时，是以波长在270~750 nm的雷射来执行该分解黑色矩阵的步骤。如申请专利范围第1项所述之方法，其中当该显示装置上有一偏光板时，是以波长在400~750 nm的雷射来执行该分解黑色矩阵的步骤。如申请专利范围第18或19项所述之方法，其中是以在该形成间隙的步骤中所使用的雷射来执行该分解黑色矩阵的步骤。如申请专利范围第1项所述之方法，其中扩散该已分解的黑色矩阵的步骤包括移动雷射朝向该彩色滤光片以引导该黑色矩阵朝向该彩色滤光片流动。如申请专利范围第21项所述之方法，其中使用和在该分解黑色矩阵的步骤所使用雷射相同的雷射来执行该扩散已分解的黑色矩阵的步骤，或是使用与在该分解黑色矩阵步骤中所用雷射相同规格的雷射来执行该扩散已分解的黑色矩阵的步骤。如申请专利范围第21项所述之方法，其中是以一种扫描式雷射照射法来将雷射照射到该彩色滤光片上或是该黑色矩阵上。如申请专利范围第21项所述之方法，其中是以一阻隔照射式雷射照射法(a block shot type laser irradiation method)或多阻隔照射式雷射照射法(a multi block shot type laser irradiation method)而将该雷射照射到该彩色滤光片上或是该黑色矩阵上。 |
