| 主权项 |
一种铰链，包含：一第一支架，具有一枢轴；一第二支架，包含一支撑部以及一定位槽孔，该支撑部形成有一转动通孔，该枢轴穿过该转动通孔；一第一主体，具有一第一通孔以及一第一平面，该枢轴穿过该第一通孔，该第一主体包含一凸起部，用以连接该定位槽孔，其中一第一定位块以及一第二定位块相对于该第一通孔对称成形于该第一平面上，且一第一凸块以及一第二凸块相对于该第一通孔之一第一轴心不等距成形于该第一平面上；一第二主体，具有一第二通孔以及一第二平面，该枢轴穿过该第二通孔，其中一第一定位凹槽以及一第二定位凹槽相对于该第二通孔对称成形于该第二平面上，且一第一凹陷以及一第二凹陷相对于该第二通孔之一第二轴心不等距成形于该第二平面上；一弹性元件，套接于该枢轴，且位于该第二主体与该枢轴末端之间；以及一固定件，固定于该枢轴之末端，压迫该弹性元件，使该第二主体与该第一主体具有一摩擦力；其中该第一主体及该第二支架同时相对于该第一支架转动，且该铰链具有一第一状态及一第二状态，当该铰链处于该第一状态时，该第一定位块以及该第二定位块分别容置于该第一定位凹槽以及该第二定位凹槽，且该第一凸块以及该第二凸块分别容置于该第一凹陷以及该第二凹陷；当该铰链处于该第二状态时，该第一定位块以及该第二定位块分别离开于该第一定位凹槽以及该第二定位凹槽，且该第一凸块以及该第二凸块分别离开该第一凹陷以及该第二凹陷。如申请专利范围第1项所述之铰链，其中该第二凸块之面积大于该第一凸块。如申请专利范围第1项所述之铰链，其中该第一定位块以及该第二定位块于一相对转动方向上分别具一斜面，该第一定位块以及该第二定位块藉由该斜面离开该第一定位凹槽以及该第二定位凹槽。一种铰链，包含：一第一支架，具有一枢轴；一第二支架，包含一支撑部以及二定位槽孔，该支撑部形成有一转动通孔，该枢轴穿过该转动通孔；一第一定位结构及一第二定位结构，其中该第一定位结构及该第二定位结构分别包含：一第一主体，具有一第一通孔以及一第一平面，该枢轴穿过该第一通孔，该第一主体包含一凸起部，用以连接该定位槽孔，其中一第一定位块以及一第二定位块相对于该第一通孔对称成形于该第一平面上，且一第一凸块以及一第二凸块相对于该第一通孔之一第一轴心不等距成形于该第一平面上；以及一第二主体，具有一第二通孔以及一第二平面，该枢轴穿过该第二通孔，其中一第一定位凹槽以及一第二定位凹槽相对于该第二通孔对称成形于该第二平面上，且一第一凹陷以及一第二凹陷相对于该第二通孔之一第二轴心不等距成形于该第二平面上；一弹性元件，套接于该枢轴，且位于该第二定位结构与该枢轴末端之间；以及一固定件，固定于该枢轴之末端，并压迫该弹性元件，使该第二主体与该第一主体具有一摩擦力；其中该第一主体及该第二支架同时相对于该第一支架转动，且该铰链具有一第一状态及一第二状态，当该铰链处于该第一状态时，该第一定位块以及该第二定位块分别容置于该第一定位凹槽以及该第二定位凹槽，且该第一凸块以及该第二凸块分别容置于该第一凹陷以及该第二凹陷；当该铰链处于该第二状态时，第一定位块以及该第二定位分别离开该第一定位凹槽以及该第二定位凹槽，且该第一凸块及该第二凸块分别离开该第一凹陷以及该第二凹陷。如申请专利范围第4项所述之铰链，其中第二凸块之面积大于该第一凸块。如申请专利范围第4项所述之铰链，其中该第一凸块以及该第二凸块于一相对转动方向上分别具一斜面，该第一凸块以及该第二凸块藉由该斜面离开该第一定位凹槽以及该第二定位凹槽。一种铰链，包含：一第一支架，具有一枢轴；一第二支架，包含一支撑部以及二定位槽孔，该支撑部形成有一转动通孔，该枢轴穿过该转动通孔；一第一定位结构及一第二定位结构，其中该第一定位结构及该第二定位结构分别包含：一第一主体，具有一第一通孔及一凸起部，其中该枢轴穿过该第一通孔，该凸起部用以连接该定位槽孔；以及一第二主体，具有一第二通孔，该枢轴穿过该第二通孔；一弹性元件，套接于该枢轴，且位于该第二定位结构与该枢轴末端之间；以及一固定件，固定于该枢轴之末端，并压迫该弹性元件，使该第二主体与该第一主体具有一摩擦力。如申请专利范围第7项所述之铰链，其中该第一主体更具有一第一平面，一第一定位凸块以及一第二定位凸块相对于该第一通孔对称成形于该第一平面上，且一第一凸块以及一第二凸块相对于该第一通孔之一第一轴心不等距成形于该第一平面上；其中该第二主体更具有一第二平面，一第一定位凹槽以及一第二定位凹槽相对于该第二通孔对称成形于该第二平面上，且一第一凹陷以及一第二凹陷相对于该第二通孔之一第二轴心不等距成形于该第二平面上；其中该第一主体及该第二支架同时相对于该第一支架转动，且该铰链具有一第一状态及一第二状态，当该铰链处于该第一状态时，该第一定位块以及该第二定位块分别容置于该第一定位凹槽以及该第二定位凹槽，且该第一凸块以及该第二凸块分别容置于该第一凹陷以及该第二凹陷；当该铰链处于该第二状态时，第一定位块以及该第二定位分别离开该第一定位凹槽以及该第二定位凹槽，且该第一凸块及该第二凸块分别离开该第一凹陷以及该第二凹陷。如申请专利范围第8项所述之铰链，其中第二凸块之面积大于该第一凸块。如申请专利范围第8项所述之铰链，其中该第一凸块以及该第二凸块于一相对转动方向上分别具一斜面，该第一凸块以及该第二凸块藉由该斜面离开该第一定位凹槽以及该第二定位凹槽。 |
