| 主权项 |
一种基板处理装置，其特征为：具有：处理容器，用以对复数基板执行乾燥处理；蒸气供给喷嘴，用以对上述处理容器供给有机溶剂之蒸气；和基板支持具，配设于上述处理容器的内部，且以特定的间隔相互平行之方式支持复数片基板，上述基板支持具具有：机械臂，延伸于铅直方向，成为至少在铅直方向昇降自如；和支持体，设置成从上述机械臂延伸于水平方向，且用以支持基板的支持沟系沿着水平方向以特定的间隔形成有复数个；和遮蔽体，系被设置于与应藉由上述支持体所支持之复数片基板中最接近于上述机械臂之基板对向的遮蔽体，且由该遮蔽体及上述机械臂所形成之与最接近于上述机械臂之基板对向的遮蔽面系成为与基板的表面大致相同的形状或比基板的表面更广，又，由比热大于基板的材料所构成。如申请专利范围第1项之基板处理装置，其中，上述遮蔽体系由比热大于基板的合成树脂所构成。如申请专利范围第1项之基板处理装置，其中，上述遮蔽体系由聚醚醚酮(PEEK)、聚三氟氯乙烯(PCTFE)、聚四氟乙烯(PTFE)及聚偏氟乙烯(PVDF)所构成的群组中至少任一者所构成。如申请专利范围第1项之基板处理装置，其中，上述遮蔽体系成为对上述机械臂装卸自如。一种基板处理装置，其特征为：具有：处理容器，用以对复数基板执行乾燥处理；蒸气供给喷嘴，用以对上述处理容器供给有机溶剂之蒸气；和基板支持具，配设于上述处理容器的内部，且以特定的间隔相互平行之方式支持复数片基板，上述基板支持具具有：机械臂，延伸于铅直方向，成为至少在铅直方向昇降自如；和支持体，设置成从上述机械臂延伸于水平方向，且用以支持基板的支持沟系沿着水平方向以特定的间隔形成有复数个，并且上述机械臂具有与应藉由上述支持体所支持之复数片基板中最接近于该机械臂之基板对向的遮蔽部分，且该遮蔽部分中与最接近于上述机械臂之基板对向的遮蔽面系成为与基板的表面大致相同的形状或比基板的表面更广，又，该遮蔽部分系由比热大于基板的材料所构成。一种基板支持方法，系藉由基板支持具使复数片基板支持成以特定间隔成为相互平行的基板支持方法，其特征为具备下列步骤：准备具有：机械臂，延伸于铅直方向，成为至少在铅直方向昇降自如；和支持体，设置成从上述机械臂延伸于水平方向，且用以支持基板的支持沟系沿着水平方向以特定的间隔形成有复数个；和遮蔽体，系被设置于与应藉由上述支持体所支持之复数片基板中最接近于上述机械臂之基板对向的遮蔽体，且由该遮蔽体及上述机械臂所形成之与最接近于上述机械臂之基板对向的遮蔽面系成为与基板的表面大致相同的形状或比基板的表面更广，又，由比热大于基板的材料所构成之基板支持具的步骤；使复数片基板支持于上述基板支持具的上述支持体，此时被支持于上述支持体的复数片基板中最接近于上述遮蔽体之基板的背面面向该遮蔽体的步骤；将上述基板支持具搬运至处理容器内之步骤；和将有机溶剂之蒸气供给至上述处理容器内而使基板乾燥的步骤。如申请专利范围第6项之基板支持方法，其中，使复数片基板支持于上述基板支持具的上述支持体时，以嵌入相邻之支持沟的两片基板的表面彼此或背面彼此相对的方式，使各基板支持于上述支持体。 |
