发明名称 使超纯净液体产生的微粒减少至最低量之分析方法及装置
摘要
申请公布号 申请公布日期 2011.01.01
申请号 TW092109044 申请日期 2003.04.18
申请人 尖端科技材料股份有限公司 发明人 伟恩 凯利;丹尼斯 启尔哥得
分类号 C02F1/00 主分类号 C02F1/00
代理机构 代理人 蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼
主权项 一种在超纯净液体之操作过程中使微粒产生减少至最低量之方法,该方法包括:使一硬式容器内之一衬里消瘪,以将空气或气体从该衬里中移除;以该超纯净液体填装于该经消瘪的衬里之至少一部份;将在该衬里与该硬式容器间之一中间区域加压,以压缩该衬里;及使该衬里排气,以于压缩该衬里时,使该衬里内部任何其他的空气或气体离开。如申请专利范围第1项所述之方法,更包含在将该衬里消瘪之后将其密封。如申请专利范围第1项所述之方法,更包含当该经消瘪的衬里之至少一部份填装液体后,使该中间区域排气。如申请专利范围第1项所述之方法,其中于该衬里中之该液体对于约0.2微米尺寸之微粒,具有每毫升低于约2个微粒之微粒浓度。如申请专利范围第1至4项中任一项所述之方法,其中将该衬里填装液体之步骤包含使用一浸管。如申请专利范围第1至4项中任一项所述之方法,其中将该衬里填装液体之步骤包含使用一底部填装法。如申请专利范围第1至4项中任一项所述之方法,其中该顶部空间系被移除。如申请专利范围第1至4项中任一项所述之方法,其中该超纯净液体系选自由酸、硷、有机溶剂、微影(photolithography)化学物质、化学研磨(CMP)料浆及液晶显示器(LCD)市场化学物质所组成之一族群。如申请专利范围第8项所述之方法,其中该顶部空间系被移除。一种在超纯净液体之操作过程中将一可消瘪衬里设置在一硬式容器内使微粒产生减少至最低量之方法,该方法包括:将该可消瘪衬里填装液体至低于一最大容量,以致在该可消瘪衬里中有一残余的顶部空间,该顶部空间包含空气或气体;及经由将在该可消瘪衬里与该硬式容器之间之一区域加压,且使该顶部空间的空气或气体排出,来减小该顶部空间。如申请专利范围第10项所述之方法,其中将该衬里填装液体之步骤包含使用一浸管。如申请专利范围第10项所述之方法,其中将该衬里填装液体之步骤包含使用一底部填装法。如申请专利范围第10项所述之方法,其中该超纯净液体系选自由酸、硷、有机溶剂、微影(photolithography)化学物质、化学研磨(CMP)料浆及液晶显示器(LCD)市场化学物质所组成之一族群。如申请专利范围第10或13项所述之方法,其中该顶部空间系被移除。一种在超纯净液体之操作过程中使超纯净液体中的微粒产生减少至最低量之方法,该方法包括:将具有一起始微粒浓度之液体,从一液体源移至一硬式容器,该硬式容器内设有一可消瘪衬里,其包含将该可消瘪衬里填装液体至低于一最大容量,以致在该可消瘪衬里中有一残余的顶部空间,该顶部空间含有空气或气体;及经由将在该可消瘪衬里与该硬式容器间之一区域加压,以使该顶部空间的空气或气体排出,来减小该顶部空间;藉此当该液体置于该可消瘪衬里内部时,该液体之一最终微粒浓度实质上不大于该起始微粒浓度。如申请专利范围第15项所述之方法,其中于该衬里中之该液体对于约0.2微米尺寸之微粒,具有每毫升低于约2个微粒之微粒浓度。如申请专利范围第15或16项所述之方法,其中将该衬里填装液体之步骤包含使用一浸管。如申请专利范围第15或16项所述之方法,其中将该衬里填装液体之步骤包含使用一底部填装法。如申请专利范围第15或16项所述之方法,其中该顶部空间系被移除。如申请专利范围第15或16项所述之方法,其中该超纯净液体系选自由酸、硷、有机溶剂、微影(photolithography)化学物质、化学研磨(CMP)料浆及液晶显示器(LCD)市场化学物质所组成之一族群。如申请专利范围第20项所述之方法,其中该顶部空间系被移除。一种在超纯净液体之操作过程中将一可消瘪衬里设置在一硬式容器内使微粒产生减少至最低量之方法,该可消瘪衬里装有液体至低于一最大容量,以致在该可消瘪衬里中最初残余有一顶部空间,该顶部空间包含空气或气体,该方法包括:经由将在该可消瘪衬里与该硬式容器间之一区域加压,且使该顶部空间的空气或气体排出,来减小该顶部空间。如申请专利范围第22项所述之方法,包含下列步骤:在将一浸管之一尖端浸没于该衬里中的液体中时,以液体填充该可消瘪衬里至低于一最大容量。如申请专利范围第22项所述之方法,其中于该衬里中之该液体对于约0.2微米尺寸之微粒,具有每毫升低于约2个微粒之微粒浓度。如申请专利范围第24项所述之方法,包含下列步骤:包含使用一浸管,以液体填充该可消瘪衬里。如申请专利范围第24项所述之方法,包含下列步骤:包含使用一底部填装法,以液体填充该可消瘪衬里。如申请专利范围第24项所述之方法,其中该顶部空间系被移除。如申请专利范围第22或24项中任一项所述之方法,其中该超纯净液体系选自由酸、硷、有机溶剂、微影(photolithography)化学物质、化学研磨(CMP)料浆及液晶显示器(LCD)市场化学物质所组成之一族群。如申请专利范围第28项所述之方法,其中该顶部空间系被移除。一种在超纯净液体之操作过程中使微粒产生减少至最低量之装置,包含:一硬式容器;一可消瘪衬里,设置于该硬式容器中并填装一流体;一流体分配管线,用以自该可消瘪衬里接受该流体;以及一气体供给管线,用以供给一加压气体至该硬式容器以及该可消瘪衬里间之一中间区域,使该可消瘪衬里处于零顶部空间状态。
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