| 主权项 |
一种基板清理方法，包含下列步骤：活性溶液施加步骤，将活性溶液施加至该基板之表面；接触步骤，使该活性溶液及该基板之该表面与固体清理元件的表面接触；活性溶液吸收步骤，使该活性溶液被吸收进入该固体清理元件的一部分，用以抵靠于该基板之表面而形成该固体清理元件之一凝胶介面部；及移动清理步骤，使该基板或该固体清理元件中之一者相对于彼此进行移动，以清理该基板之该表面。如申请专利范围第1项之基板清理方法，其中该活性溶液为硷性溶液。如申请专利范围第1项之基板清理方法，其中该活性溶液为硷性溶液，其包含选自于由下列各者所构成之族群中的一硷：氢氧化铵、氢氧化钠、氢氧化钾、三乙醇胺及氢氧化四甲铵。如申请专利范围第1项之基板清理方法，其中该固体清理元件为由脂肪酸所构成的平面表面。如申请专利范围第1项之基板清理方法，其中该固体清理元件为平面表面，此平面表面之构成成分系选自于包含下列各者之族群：羧酸、磺酸及膦酸。如申请专利范围第1项之基板清理方法，其中该固体清理元件为平面表面，其中使该活性溶液及该基板之该表面与固体清理元件的表面接触的该接触步骤，导致该固体清理元件的该表面及该基板之该表面离子化。如申请专利范围第1项之基板清理方法，其中该固体清理元件之构成成分系选自于包含下列者之族群：烷基磺酸盐、烷基磷酸酯及烷基膦酸酯。如申请专利范围第1项之基板清理方法，其中该活性溶液扩散进入该固体清理元件之该部分，导致该固体清理元件的该部分较该固体清理元件之其余部分更软。如申请专利范围第1项之基板清理方法，其中该活性溶液为介面活性剂。如申请专利范围第9项之基板清理方法，其中该介面活性剂为离子介面活性剂。一种基板清理设备，包含：固体材料，具有一外表面，当该外表面暴露至布置于该基板之表面上方的活性溶液时，其用以形成一凝胶介面部；及支撑结构，用以支撑该固体材料并施力使得该凝胶介面部与该基板之该表面接触。如申请专利范围第11项之基板清理设备，其中该固体材料系选自于由下列各者所构成之族群：脂肪酸、烷基磺酸盐、烷基磷酸酯及烷基膦酸酯。如申请专利范围第11项之基板清理设备，其中该支撑结构包含通过该固体材料之一轴线的一轴，其中该固体材料绕着该轴线旋转。如申请专利范围第11项之基板清理设备，其中该支撑结构为平衡环式，并对该固体材料提供相对于该基板之旋转。如申请专利范围第11项之基板清理设备，更包含：流体输送系统，提供该活性溶液至该基板之该表面。如申请专利范围第11项之基板清理设备，其中该活性溶液为硷。如申请专利范围第11项之基板清理设备，其中该活性溶液为介面活性剂。如申请专利范围第11项之基板清理设备，其中该外表面的一部分被该活性溶液所离子化，其中该外表面为平面表面。一种基板清理系统，包含：支撑件，用以支撑该基板；流体输送系统，用以将活性溶液输送至该基板之表面；固相清理元件，具有一裸露表面，当该裸露表面与该活性溶液接触时，该裸露表面之一部分相对于该固相清理元件的其余部分变得更软，且其中该活性溶液与该裸露表面发生反应，以抵靠于该基板之该表面而建立该固相清理元件之凝胶介面部；及支撑结构，支撑该固相清理元件，该支撑结构用以在清理操作期间使该裸露表面维持抵靠于该基板之该表面。如申请专利范围第19项之基板清理系统，其中该固相清理元件实质上由脂肪酸所构成。如申请专利范围第19项之基板清理系统，其中该固相清理元件的材料系选自于由下列各者所构成之族群：烷基磺酸盐、烷基磷酸酯及烷基膦酸酯。如申请专利范围第19项之基板清理系统，其中该活性溶液的pH值高于7.0。如申请专利范围第19项之基板清理系统，其中该活性溶液为介面活性剂。如申请专利范围第23项之基板清理系统，其中该介面活性剂为十二烷基硫酸铵(ammonium dodecyl sulphate)。如申请专利范围第19项之基板清理系统，其中该支撑结构系用以旋转该固相清理元件。如申请专利范围第19项之基板清理系统，其中该支撑结构系用以使该固相清理元件平行及垂直于该基板之该表面进行移动。如申请专利范围第19项之基板清理系统，其中该支撑结构使该固相清理元件保持静止。如申请专利范围第19项之基板清理系统，其中该凝胶介面部捕捉位于该基板之该表面上的粒子。如申请专利范围第19项之基板清理系统，更包含：复数固相清理元件，该复数固相清理元件的每一者系由不同材料所构成，其中该基板支撑件移动该复数固相清理元件之每一者下方的该基板，且其中在该基板于该复数固相清理元件之每一者下方移动之前，该流体输送系统将该活性溶液提供至该基板。一种基板清理方法，包含下列步骤：接触步骤，使基板表面与固体清理元件之表面接触；驱迫步骤，迫使该固体清理元件倚靠于该基板表面；移动步骤，使该固体清理元件或该基板中之一者相对于彼此进行移动，此移动导致该固体清理元件之该表面产生塑性形变，藉此该固体清理元件之一膜层沈积至该基板表面上；及冲洗步骤，自该基板表面冲去该固体清理元件之该膜层。如申请专利范围第30项之基板清理方法，其中该固体清理元件的硬度系低于该基板之硬度。如申请专利范围第30项之基板清理方法，其中使用硷性水性溶液来自该基板表面冲去该固体清理元件的该膜层。如申请专利范围第30项之基板清理方法，其中使用水、硫酸及过氧化氢之混合物来自该基板表面冲去该固体清理元件的该膜层。如申请专利范围第30项之基板清理方法，其中使该固体清理元件或该基板中之一者相对于彼此进行移动之该移动步骤包含：使该固体清理元件与位于该基板表面上之污染物进行交互作用。一种基板清理设备，包含：固体材料，具有一外表面，当该基板或该固体材料中之一者相对于彼此进行移动时，该外表面发生塑性形变而在该基板上沈积一膜层以回应施加至该固体材料上之下向力；及支撑结构，用以支撑该固体材料与传递该向下力。如申请专利范围第35项之基板清理设备，其中该固体材料之硬度系低于该基板之硬度，且其中该固体材料实质上由硬脂酸所构成。如申请专利范围第35项之基板清理设备，更包含：流体输送系统，用以冲去该基板上之该膜层。如申请专利范围第35项之基板清理设备，其中该固体材料实质上由脂肪酸所构成。如申请专利范围第35项之基板清理设备，其中该固体材料之材料系选自于由下列各者所构成之族群：烷基磺酸盐、烷基磷酸酯及烷基膦酸酯。 |
