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发明名称
A method for forming a contact hole of a semiconductor device
摘要
申请公布号
KR101004513(B1)
申请公布日期
2010.12.31
申请号
KR20030066568
申请日期
2003.09.25
申请人
发明人
分类号
H01L21/28
主分类号
H01L21/28
代理机构
代理人
主权项
地址
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