发明名称 Method for fabricating non-volatile memory device having charge trap layer
摘要
申请公布号 KR101003492(B1) 申请公布日期 2010.12.30
申请号 KR20070135869 申请日期 2007.12.21
申请人 发明人
分类号 H01L21/8247;H01L27/115 主分类号 H01L21/8247
代理机构 代理人
主权项
地址