发明名称 半导体装置及其制造方法
摘要 本发明提供如下的半导体装置及其制造方法:能够防止在激光焊接中产生的飞溅物附着于电路图案或半导体芯片,能够防止电气特性的劣化。利用焊锡(13)在形成于陶瓷(4)上的铜箔上固定连接导体(14),在该连接导体(14)的上部面(P)的下方填充树脂(17a)并进行激光焊接,然后填充树脂(17b),由此,能够防止在激光焊接中产生的飞溅物(21)附着于电路图案(5)、(6)或半导体芯片(8)的情况。由此,能够防止电气特性劣化。
申请公布号 CN101933139A 申请公布日期 2010.12.29
申请号 CN200880120955.3 申请日期 2008.12.09
申请人 爱信艾达株式会社;富士电机系统株式会社 发明人 鹤冈纯司;青木一雄;小野正树;吉原克彦
分类号 H01L23/29(2006.01)I;H01L23/31(2006.01)I;H01L25/07(2006.01)I;H01L25/18(2006.01)I 主分类号 H01L23/29(2006.01)I
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人 黄纶伟;马建军
主权项 一种半导体装置,其特征在于,该半导体装置具有:电路图案,其形成于绝缘基板上;半导体芯片,其固定于所述电路图案上;连接导体,其固定于所述电路图案或所述半导体芯片的至少一方;绝缘树脂,其使所述连接导体的焊接部露出,并覆盖所述电路图案、所述半导体芯片;以及外部端子,其使主电流流入所述半导体芯片的主电极,利用激光焊接与所述连接导体的所述焊接部接合。
地址 日本爱知县
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