| 发明名称 | 含杂环巯基化合物的烫发剂 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种烫发剂，该烫发试剂即使在对皮肤刺激不明显的中性至弱酸性pH范围内也能够实现烫发。该烫发剂包含至少一种由式(1)表示的杂环巯基化合物：其中R1和R2彼此独立地代表氢原子或任选取代的具有1-5个碳原子的烷基；X代表-O-、-S-、-NH-或-NR3-；R3代表具有1-5个碳原子的烷基；n为0-2的整数；而且，当n为2时，基团SH可以与具有2个碳原子的亚烷基中的任一碳原子连接。 | ||
| 申请公布号 | CN101184528B | 申请公布日期 | 2010.12.29 |
| 申请号 | CN200680018526.6 | 申请日期 | 2006.05.25 |
| 申请人 | 昭和电工株式会社 | 发明人 | 涩谷彰;万谷慎一;斋藤信 |
| 分类号 | A61Q5/04(2006.01)I | 主分类号 | A61Q5/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人 | 林柏楠;刘金辉 |
| 主权项 | 1.一种烫发剂，其包含至少一种由式(1)表示的杂环巯基化合物：<img file="FSB00000022551600011.GIF" wi="1628" he="351" />其中R<sup>1</sup>和R<sup>2</sup>彼此独立地代表氢原子或具有1-5个碳原子的烷基；X代表-NH-或-NR<sup>3</sup>-；R<sup>3</sup>代表具有1-5个碳原子的烷基；n为0-2的整数；而且，当n为2时，基团SH可以与具有2个碳原子的亚烷基中的任一碳原子连接。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||