图案曝光方法和图案曝光设备

摘要

将安置有光敏层的带-样工件(11)以工件输送速度V在工件输送方向F上输送。照射部(30)与工件输送速度V相同步的曝光周期T照射光掩模(29)。在距离带-样工件(11)的贴近间隙处布置光掩模(29)。在带-样工件(11)上曝光在光掩模(29)上的掩模图案(33)，以在上面形成周期图案。

主权项

一种图案曝光方法，包括下列步骤：连续输送具有光敏层的带 样或片 样工件；和通过以距所述工件的预定贴近间隙布置并且具有掩模图案的光掩模，对所述工件周期地施加接近式曝光达一定的曝光时间，从而在所述工件上形成周期图案，所述周期图案是所述掩模图案沿所述工件的输送方向的周期排列，其中当所述周期图案的一个周期的长度为周期长度L0，所述工件在垂直于所述工件输送方向的方向上的宽度为工件宽度W0，上面安置有所述掩模图案的图案区域在所述工件输送方向上的长度为图案长度L，在所述图案区域在工件宽度方向上的长度为图案宽度W，所述工件的输送速度为V，用于曝光所述周期图案的曝光周期为T，所述曝光时间为ΔT，以及所述掩模图案的最小线宽为Dmin时，以每个所述曝光周期T对覆盖所述掩模图案的至少一个周期的曝光区域施加的所述曝光时间ΔT的所述接近式曝光，遵循下列条件式：L0＜L；W0＜W；L0/V≥T；和V·ΔT＜Dmin。