| 发明名称 | 防护膜框架及光刻用防护膜 | ||
| 摘要 | 本发明的目的在于提供一种防护膜框架，即使在将防护膜贴合于曝光底版上，仍可极力减轻因防护膜框架的变形所引起的曝光底版的变形；还提供一种具有此种防护膜框架的光刻用防护膜。本发明的防护膜框架的特征在于，防护膜框架杆的剖面，是在上边与下边平行且面积为20mm2以下的四边形的至少一侧边具有至少一个三角形的凹陷部的形状。另外，本发明的光刻用防护膜，其特征在于，借助防护胶膜粘接剂将防护胶膜贴设于该防护膜框架的一端面，且在另一端面设置曝光底版粘接剂。 | ||
| 申请公布号 | CN101930166A | 申请公布日期 | 2010.12.29 |
| 申请号 | CN201010214029.1 | 申请日期 | 2010.06.24 |
| 申请人 | 信越化学工业株式会社;英特尔公司 | 发明人 | 白崎享;戴维·穆舍尔;基肖尔·查克拉瓦蒂;格蕾斯·额 |
| 分类号 | G03F1/14(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 朱丹 |
| 主权项 | 一种防护膜框架，其特征在于，防护膜框架杆的剖面是在上边与下边平行且面积为20mm2以下的四边形的至少一侧边具有至少一个三角形的凹陷部的形状。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||