发明名称 |
蓝宝石衬底的AlGaInP发光二极管外延片及其制备方法 |
摘要 |
本发明提供了一种蓝宝石衬底的AlGaInP发光二极管外延片及其制备方法。该发光二极管的外延结构由下至上依次为蓝宝石衬底、低温GaP缓冲层、高温GaP缓冲层、GaP电流扩展及欧姆接触层、AlGaInP过渡层和下限制层、多量子阱AlGaInP有源区、AlGaInP上限制层和GaP电流扩展层。其制备方法是在蓝宝石衬底上依次逐层生长各外延层。本发明使用蓝宝石作为外延生长衬底,并使用磷化镓作为缓冲层,由于蓝宝石和磷化镓材料对黄色至红色波段是透明的,因此不存在衬底光吸收问题,通过磷化镓缓冲层可以抑制蓝宝石衬底和AlGaInP材料之间晶格失配和热膨胀系数失配导致的材料生长缺陷,从而可以大大提高发光二极管的光输出能力。 |
申请公布号 |
CN101540359B |
申请公布日期 |
2010.12.29 |
申请号 |
CN200910020390.8 |
申请日期 |
2009.04.29 |
申请人 |
山东华光光电子有限公司 |
发明人 |
李树强;徐现刚;张新;马光宇;任忠祥;夏伟;吴小强;卢振;于军;吴作贵 |
分类号 |
H01L33/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L33/00(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种蓝宝石衬底的AlGaInP发光二极管外延片,其特征是:其外延结构由下至上依次为蓝宝石衬底、低温GaP缓冲层、高温GaP缓冲层、GaP电流扩展及欧姆接触层、AlGaInP过渡和下限制层、多量子阱AlGaInP有源区、AlGaInP上限制层和GaP电流扩展层,GaP电流扩展及欧姆接触层以及AlGaInP过渡和下限制层为第一导电类型而AlGaInP上限制层和GaP电流扩展层为第二导电类型。 |
地址 |
250101 山东省济南市高新区天辰大街1835号 |