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发明名称 CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION, AND MOLD PREPARATION METHOD AND RESIST FILM USING THE SAME
摘要 <p>A chemical amplification resist composition that is used for preparation of a mold, and a mold preparation method and a resist film each using the composition are provided.</p>
申请公布号 WO2010150917(A1) 申请公布日期 2010.12.29
申请号 WO2010JP61096 申请日期 2010.06.23
申请人 FUJIFILM CORPORATION;FUJIMORI, TORU;SHIRAKAWA, KOJI;USA, TOSHIHIRO;SUGIYAMA, KENJI;ITO, TAKAYUKI;TSUBAKI, HIDEAKI;NISHIMAKI, KATSUHIRO;HIRANO, SHUJI;TAKAHASHI, HIDENORI 发明人 FUJIMORI, TORU;SHIRAKAWA, KOJI;USA, TOSHIHIRO;SUGIYAMA, KENJI;ITO, TAKAYUKI;TSUBAKI, HIDEAKI;NISHIMAKI, KATSUHIRO;HIRANO, SHUJI;TAKAHASHI, HIDENORI
分类号 G03F7/039;B29C33/38;B29C59/02;C08F12/00;C08F20/00;C08F20/50;G03F7/004;H01L21/027 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人
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