发明名称 用于吸附床再生的工艺
摘要 本发明提供了一种用于至少一个吸附床再生的工艺,该工艺至少包括下列步骤:(a)用气态流(10)接触第一吸附床(B1),使得所述第一吸附床(B1)中的至少一部分被吸附的物质被释放;(b)冷却第二吸附床(B2);其中一旁路(20)设置在第二吸附床(B2)周围,并且气态流(10)在接触第一吸附床(B1)之前被引向(i)第二吸附床(B2)和(ii)第二吸附床(B2)周围的旁路(20)中的至少一个,其中对流过旁路(20)的气态流(10)的比例进行控制。
申请公布号 CN101932373A 申请公布日期 2010.12.29
申请号 CN200980103955.7 申请日期 2009.02.02
申请人 国际壳牌研究有限公司 发明人 A·卡尔森
分类号 B01D53/04(2006.01)I;B01J20/34(2006.01)I 主分类号 B01D53/04(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 赵培训
主权项 一种用于至少一个吸附床再生的工艺,该工艺至少包括下列步骤:(a)用气态流(10)接触第一吸附床(B1),使得所述第一吸附床(Bl)中的至少一部分被吸附的物质被释放;(b)冷却第二吸附床(B2);其中一旁路(20)设置在第二吸附床(B2)周围,并且气态流(10)在接触第一吸附床(Bl)之前被引向(i)第二吸附床(B2)和(ii)第二吸附床(B2)周围的旁路(20)中的至少一个,其中对流过旁路(20)的气态流(10)的比例进行控制。
地址 荷兰海牙