发明名称 |
用于吸附床再生的工艺 |
摘要 |
本发明提供了一种用于至少一个吸附床再生的工艺,该工艺至少包括下列步骤:(a)用气态流(10)接触第一吸附床(B1),使得所述第一吸附床(B1)中的至少一部分被吸附的物质被释放;(b)冷却第二吸附床(B2);其中一旁路(20)设置在第二吸附床(B2)周围,并且气态流(10)在接触第一吸附床(B1)之前被引向(i)第二吸附床(B2)和(ii)第二吸附床(B2)周围的旁路(20)中的至少一个,其中对流过旁路(20)的气态流(10)的比例进行控制。 |
申请公布号 |
CN101932373A |
申请公布日期 |
2010.12.29 |
申请号 |
CN200980103955.7 |
申请日期 |
2009.02.02 |
申请人 |
国际壳牌研究有限公司 |
发明人 |
A·卡尔森 |
分类号 |
B01D53/04(2006.01)I;B01J20/34(2006.01)I |
主分类号 |
B01D53/04(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人 |
赵培训 |
主权项 |
一种用于至少一个吸附床再生的工艺,该工艺至少包括下列步骤:(a)用气态流(10)接触第一吸附床(B1),使得所述第一吸附床(Bl)中的至少一部分被吸附的物质被释放;(b)冷却第二吸附床(B2);其中一旁路(20)设置在第二吸附床(B2)周围,并且气态流(10)在接触第一吸附床(Bl)之前被引向(i)第二吸附床(B2)和(ii)第二吸附床(B2)周围的旁路(20)中的至少一个,其中对流过旁路(20)的气态流(10)的比例进行控制。 |
地址 |
荷兰海牙 |