| 发明名称 | 内层基板用曝光装置以及基板和掩膜的剥离方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种内层基板用曝光装置以及基板和掩膜的剥离方法，本发明所要解决的技术问题是，使基板能尽早且切实地从曝光掩膜剥离。本发明中，在曝光平台(1)和上框(2)这两者上，设置进行突出动作，将基板(10)的一端向从曝光掩膜(11)剥下的方向推压的推进器(12)，在推进器(12)上形成相对于基板(10)和曝光掩膜(11)之间喷出气体的喷嘴(21)。推进器(12)被设置在推压基板(10)的端部的部位，喷嘴(21)以向作为剥离对象的基板(10)的喷出气体的方式形成，从喷嘴(21)喷出的气体是具有除静电作用的被离子化的气体。 | ||
| 申请公布号 | CN101930182A | 申请公布日期 | 2010.12.29 |
| 申请号 | CN201010202930.7 | 申请日期 | 2010.06.11 |
| 申请人 | 丰和工业株式会社 | 发明人 | 猿渡义德 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G03F7/36(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 张斯盾 |
| 主权项 | 一种内层基板用曝光装置，是在曝光平台上和配设在该曝光平台的上方的上框上分别配置曝光掩膜，能够将规定的图案曝光在配置在两者之间的基板的两面的内层基板用曝光装置，其特征在于，在上述曝光平台和上述上框这两者上具备进行突出动作，将上述基板向从上述曝光掩膜剥下的方向推压的推进器，并在上述推进器前端部具备相对于上述基板和上述曝光掩膜之间喷出气体的喷嘴，上述喷嘴连接于与上述推进器的突出动作相吻合地使气体喷出的气体供给构件。 | ||
| 地址 | 日本爱知县 | ||