发明名称 一种真空紫外平板光源
摘要 本发明公开了一种真空紫外平板光源,包括前基板和后基板,前后基板由石英玻璃制成,在前基板与后基板之间设有放电腔体,在前基板上设置成对的平行电极,采用表面放电,或在前后基板设置电极,采用对向式放电方式,在电极表面上还设有介质层,在介质层上设有保护膜,放电腔体充入一定气压的工作气体,可以由Ne和Xe气的混合气体构成,在电极间施加交流脉冲,工作气体放电,在维持电流脉冲的作用下,持续产生147nm和172nm的真空紫外光,通过石英基板出射到光源外面需要处理的表面上。本发明可以产生真空紫外光的面光源,对大面积处理表面具有优越性。可以实现单面和双面真空紫外平板光源,适合不同的应用场合。
申请公布号 CN101540262B 申请公布日期 2010.12.29
申请号 CN200910031217.8 申请日期 2009.04.27
申请人 东南大学 发明人 李青;哈姆·托勒;杨兰兰;郑姚生;刘杰;张子南;崔渊
分类号 H01J63/00(2006.01)I;H01J63/02(2006.01)I 主分类号 H01J63/00(2006.01)I
代理机构 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人 张惠忠
主权项 一种真空紫外平板光源,其特征在于包括前基板和后基板,前后基板由石英玻璃制成,在前基板与后基板之间设有放电腔体,采用表面放电方式,在前基板上设置成对的平行电极,并位于所述的放电腔体内,在前基板上还设有介质层,所述成对电极位于前基板与介质层之间,在介质层上设有保护膜,放电腔体充入工作气体,所述工作气体由Ne和Xe气的混合气体构成,Xe气的比例高于或等于20%,或者由纯Xe气构成,工作气体的气压为400~700Torr,在成对的平行电极间施加交流脉冲,当幅值超过工作气体的着火电压,工作气体放电,在维持电流脉冲的作用下,持续产生147nm和172nm的真空紫外光,通过石英基板出射到光源外面需要处理的表面上。
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