| 发明名称 | 制造磁记录介质的方法以及磁记录/再现装置 | ||
| 摘要 | 一种制造磁记录介质的方法，该磁记录介质在非磁性基底的至少一个表面上具有磁性分离的磁记录图形，该方法包括以(A)到(G)的顺序执行的下列七个步骤：(A)在非磁性基底上形成磁性层的步骤；(B)在磁性层上形成碳掩模层的步骤；(C)在碳掩模层上形成抗蚀剂层的步骤；(D)在抗蚀剂层上形成磁记录图形的负图形的步骤；(E)去除在与磁记录图形的负图形对应的区域中的掩模层的部分的步骤；(F)去除在与磁记录图形的负图形对应的区域中的磁性层的至少表面层部分的步骤；以及(G)需要时去除剩余的抗蚀剂层和碳掩模层的步骤。所制成的磁记录介质确保了等于或优于常规介质的记录/再现特性并呈现高记录密度。 | ||
| 申请公布号 | CN101933090A | 申请公布日期 | 2010.12.29 |
| 申请号 | CN200880126071.9 | 申请日期 | 2008.11.28 |
| 申请人 | 昭和电工株式会社 | 发明人 | 福岛正人;坂胁彰;山根明 |
| 分类号 | G11B5/855(2006.01)I;G11B5/65(2006.01)I;G11B5/667(2006.01)I;G11B5/851(2006.01)I;H01F10/16(2006.01)I;H01F41/18(2006.01)I | 主分类号 | G11B5/855(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人 | 杨晓光;于静 |
| 主权项 | 一种制造磁记录介质的方法，所述磁记录介质在非磁性基底的至少一个表面上具有磁性分离的磁记录图形，该方法的特征在于包括依次执行的下列步骤(A)到(F)：(A)在非磁性基底上形成磁性层的步骤；(B)在所述磁性层上形成碳层的步骤；(C)在所述碳层上形成抗蚀剂层的步骤；(D)在所述抗蚀剂层上形成所述磁记录图形的负图形的步骤；(E)去除在与所述磁记录图形的所述负图形对应的区域中的所述抗蚀剂层的部分和所述碳层的部分的步骤；以及然后(F)去除在与所述磁记录图形的所述负图形对应的每一个区域中的所述磁性层的至少表面层部分的步骤。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||