发明名称 |
硅氧烷自粘合剂、其生产方法、使用其的复合物及其应用 |
摘要 |
本发明涉及制备含有抗粘合硅氧烷涂层的底物的方法,该涂层从基于交联的硅氧烷油的抗粘合硅氧烷组合物获得,和其原先的性质相比,该涂层具有改良的粘合性,其中提供一底物,其至少部分地由抗粘合硅氧烷涂层涂覆,所述抗粘合硅氧烷涂层大约在大气压下,在可选掺杂的氮气氛围中或可选掺杂的二氧化碳氛围中,进行冷等离子体处理。本发明还涉及至少部分涂覆了抗粘合硅氧烷组合物的底物、硅氧烷自粘合复合物以及用途。 |
申请公布号 |
CN101932638A |
申请公布日期 |
2010.12.29 |
申请号 |
CN200880123324.7 |
申请日期 |
2008.12.23 |
申请人 |
蓝星有机硅法国简易股份有限公司 |
发明人 |
让-马克·弗朗斯;肖恩·迪菲 |
分类号 |
C08J7/18(2006.01)I |
主分类号 |
C08J7/18(2006.01)I |
代理机构 |
北京市金杜律师事务所 11256 |
代理人 |
郑立柱;谢燕军 |
主权项 |
一种制备含有抗粘合涂层的底物的方法,该涂层从基于优选至少部分交联的硅氧烷油的“抗粘合”硅氧烷组合物获得,和其原先的性质相比,该涂层具有改良的粘合性,其中提供一底物,其至少部分地由前述的涂层涂覆,并且大约在大气压下,在氮气氛围中,可选地掺有低于1%重量的一种或几种成分,选自下组:H2、N2O、乙炔、SiH4、CF4、CO2、O2、H2O,或者在二氧化碳氛围中,可选地掺有低于1%重量的一种或几种成分,选自下组:H2、N2O、乙炔、SiH4、CF4、N2、O2、H2O,用冷的等离子体处理该抗粘合的硅氧烷底物。 |
地址 |
法国里昂 |