| 发明名称 | 工件台坐标系参数测量方法 | ||
| 摘要 | 本发明提出一种光刻机的工件台坐标系参数测量方法，包括以下步骤：该工件台沿y向以步进距离ys对标记进行步进曝光，在硅片上形成y向套刻标记；该工件台沿x向以步进距离xs对标记进行步进曝光，在硅片上形成x向套刻标记；对硅片进行显影；测量x向和y向套刻标记的套刻误差；根据套刻误差计算出工件台坐标系的非正交性和比例缩放因子。本发明测量过程简单，测量时间短。套刻误差的测量精度高，提高了非正交性与缩放比例因子的测量精度。 | ||
| 申请公布号 | CN101526753B | 申请公布日期 | 2010.12.29 |
| 申请号 | CN200910045250.6 | 申请日期 | 2009.01.13 |
| 申请人 | 上海微电子装备有限公司 | 发明人 | 马明英 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G01B11/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 屈蘅;李时云 |
| 主权项 | 一种工件台坐标系参数测量方法，其特征是，包括以下步骤：该工件台沿y向以步进距离ys对标记进行步进曝光，在硅片上形成y向套刻标记；该工件台沿x向以步进距离xs对标记进行步进曝光，在硅片上形成x向套刻标记；对硅片进行显影；测量x向和y向套刻标记的套刻误差；以及根据套刻误差计算出工件台坐标系的非正交性和比例缩放因子。 | ||
| 地址 | 201203 上海市张江高科技园区张东路1525号 | ||