用于真空成形基片的真空成形装置和方法

摘要

本发明涉及用于在用树脂涂布的基片上形成光学图案的真空成形装置以及真空成形方法。所述装置包括具有侧壁的真空室本体，以及分别用于密封所述侧壁的顶部和底部的盖子和底板，其中，所述真空室本体内部配置有用于将三维图案转印到基片上的成形模具，以及能上升和下降的成形模具框，用于固定所述成形模具的边缘。由于所述成形模具框的下降，由所述盖子，侧壁和底板密封的空间被分隔为上腔和下腔。尽管扩大了基片的尺寸，本发明甚至适用于三维图案，例如复杂形式的光学图案，且能够预防在基片上所形成的图案中未成形区域的发生，或者缺陷的发生，例如气泡。

主权项

一种用于在涂有树脂的基片上形成光学图案的真空成形装置，所述装置包括具有侧壁的真空室本体，以及分别用于密封所述侧壁的顶部和底部的盖子和底板，其中，所述真空室本体内部配置有用于将光学图案转印到基片上的成形模具，以及能上升和下降的成形模具框，用于固定所述成形模具的边缘，且由于所述成形模具框的下降，由所述盖子、侧壁和底板密封的空间被分隔为上腔和下腔。