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发明名称 A REACTOR FOR AN ATMOSPHERIC PLASMA CVD APPARATUS AND A METHOD FOR FORMING THIN LAYER USING THE SAME
摘要
申请公布号 KR101004061(B1) 申请公布日期 2010.12.27
申请号 KR20080097859 申请日期 2008.10.06
申请人 发明人
分类号 C23C16/50;C23C16/455 主分类号 C23C16/50
代理机构 代理人
主权项
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