| 发明名称 |
SEMICONDUCTOR SUBSTRAAT TRANSFER/BEHANDELINGS-TUNNEL-OPSTELING, WAARIN TENMINSTE MEDE IN HET BOVEN- EN/OF ONDER TUNNELBLOK DE OPNAME VAN EEN ZICH IN DWARSRICHTING ERVAN UITSTREKKENDE STRIPVORMIGE INRICHTING TEN BEHOEVE VAN TIJDENS DE WERKING ERVAN HET ONONDERBROKEN OPVOLGEND OP- EN NEERWAARTS VERPLAATSEN VAN HET STRIPVORMIGE DRUKPLAAT-GEDEELTE ERVAN. |
