发明名称 COMPOSITION FOR MANUFACTURING SIO2 RESIST LAYERS AND METHOD OF ITS USE
摘要
申请公布号 KR20100135276(A) 申请公布日期 2010.12.24
申请号 KR20107023751 申请日期 2009.03.02
申请人 MERCK PATENT GMBH 发明人 STOCKUM WERNER;KOEHLER INGO;MEIJER ARJAN;BROOKES PAUL CRAIG;PATTERSON KATIE;JAMES MARK
分类号 C23C18/12;C23C18/16;H01L21/288 主分类号 C23C18/12
代理机构 代理人
主权项
地址