摘要 |
<p>Ein System zur Gasreinigung, das mindestens ein Gehäuse (2) mit einem ersten Raum (6), in den das zu reinigende Gas einströmbar ist, und einem eine Filterkammer bildenden zweiten Raum (10) aufweist, aus dem das gereinigte Gas austritt und der eine vom Gas durchströmbare Filtereinrichtung enthält, die Filtermedien (54) sowohl zur Absonderung von Feststoff partikeln als auch für eine Entfeuchtung des Gases zur Abscheidung koalisierter Flüssigkeit aufweist, wobei der erste Raum (6) einen der Vorentfeuchtung des Gases dienenden Zyklon (60) enthält, aus dem Schmutzpartikel und Flüssigkeiten in einen dritten Raum (14) des Gehäuses (2) abgebbar sind, ist dadurch gekennzeichnet, dass das Gehäuse (2) aus einem Gehäuseoberteil (8) mit dem die Filterkammer bildenden zweiten Raum (10), einem Gehäusemittelteil (4) mit dem den Zyklon (60) enthaltenden ersten Raum (6) und aus einem den dritten Raum (14) bildenden Gehäuseunterteil (12) zusammengesetzt ist, die über zumindest einen Zuganker (32) zur Bildung eines geschlossenen Druckbehälters miteinander verspannbar sind.</p> |
申请人 |
HYDAC PROCESS TECHNOLOGY GMBH;SCZESNY, JOERG;DEUTSCHMEYER, MANFRED;SCHLICHTER, BERNHARD |
发明人 |
SCZESNY, JOERG;DEUTSCHMEYER, MANFRED;SCHLICHTER, BERNHARD |