Method for manufacturing a lithographic mask and lithographic mask,申请号KR20080054623-传众专利搜索

发明名称	Method for manufacturing a lithographic mask and lithographic mask
摘要
申请公布号	KR101003375(B1)	申请公布日期	2010.12.23
申请号	KR20080054623	申请日期	2008.06.11
申请人		发明人
分类号	H01L21/027;G03F1/32;G03F1/68;G03F1/82;G03F7/20;G03F7/42;H01L21/304	主分类号	H01L21/027
代理机构		代理人
主权项
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