掩膜板及掩膜板的形成方法

摘要

本发明公开了一种掩膜板，该掩膜板包括透光基板，所述透光基板上具有至少一个对曝光光线具有遮光性的图形区域，其中，至少一个所述图形区域内的透光基板上设置有相移光栅的开槽，且所述开槽对曝光光线具有透光性。本发明还公开了该掩膜板相应的形成方法，采用本发明的掩膜板，可以提高光刻工艺的分辨率、焦深及图形对比度，加大工艺窗口。

主权项

一种掩膜板的形成方法，其特征在于，包括步骤：设计掩膜板的版图，所述版图具有至少一个图形区域；在设计的掩膜板版图的至少一个所述图形区域内加入相移光栅；刻蚀对曝光光线具有透光性的透光基板，形成相移光栅的开槽；在各所述图形区域内开槽以外的区域上覆盖对于曝光光线具有遮光性的材料，形成掩膜板；其中，所述在各所述图形区域内开槽以外的区域上覆盖对于曝光光线具有遮光性的材料，包括步骤：利用辅助材料覆盖透光基板表面并填充所述开槽；利用研磨的方法去除所述透光基板表面的所述辅助材料；在各所述图形区域上覆盖对于曝光光线具有遮光性的材料；去除所述开槽内的所述辅助材料。