离子注入装置

摘要

本发明提供一种离子注入装置，能统一对多个基板进行离子注入，且使各基板面内的离子注入量分布均匀。该离子注入装置包括：注入室(8)，被导入离子束(4)；托架(12)，把基板(10)沿X方向保持在第一列和第二列两列上；托架驱动装置(16)，能使托架(12)成水平状态且位于基板交换位置(48)，还能使托架(12)成立起状态，在离子束(4)的照射区域沿X方向往复直线驱动托架(12)。还具有两个加载互锁机构(20a，20b)、以及两个基板输送装置(30a，30b)，基板输送装置(30a，30b)各具有两个在各加载互锁机构(20a，20b)与基板交换位置(48)之间输送基板(10)的臂(32a～32d)。

主权项

一种离子注入装置，其特征在于，包括：注入室，排气成真空，被导入离子束；托架，设置在所述注入室内，把照射所述离子束进行离子注入的基板沿X方向保持在第一列和第二列两列上；托架驱动装置，能够使所述托架处于水平状态，并位于基板交换位置；还能够使所述托架处于立起状态，并在所述离子束的照射区域沿所述X方向往复直线驱动所述托架；第一加载互锁机构和第二加载互锁机构，用于使所述基板在大气一侧与所述注入室内之间进出；第一基板输送装置，具有第一臂和第二臂，两个臂相互位于上下位置、并能够以相同的中心线为中心相互独立往复旋转，其中，第一臂把基板从所述第一加载互锁机构输送到位于所述基板交换位置的所述托架的第一列上；第二臂把基板从位于所述基板交换位置的所述托架的第一列输送到所述第一加载互锁机构；以及第二基板输送装置，具有第三臂和第四臂，两个臂相互位于上下位置、并能够以相同的中心线为中心相互独立往复旋转，其中，第三臂把基板从所述第二加载互锁机构输送到位于所述基板交换位置的所述托架的第二列上；第四臂把基板从位于所述基板交换位置的所述托架的第二列输送到所述第二加载互锁机构。