发明名称 |
一种全反射投影光学系统 |
摘要 |
本发明提供了一种全反射投影光学系统,以利用成像光线将位于物镜物平面内的图案投射到物镜像平面内,其包括位于物面之后该成像光线依次经过的第一至第四反射镜,该四片反射镜构成双远心投影物镜结构,即孔径光阑位于该第二反射镜上并关于光轴旋转对称,该第二反射镜位于第一反射镜焦点位置,并且该第三反射镜和第四反射镜将该孔径光阑的像成在像方无限远处。因而,本发明的物方主光线和像方主光线均与光轴平行,有利于减小畸变,扩大视场并且系统结构合理。 |
申请公布号 |
CN101221281B |
申请公布日期 |
2010.12.22 |
申请号 |
CN200810033055.7 |
申请日期 |
2008.01.24 |
申请人 |
上海微电子装备有限公司 |
发明人 |
朱立荣;储兆祥 |
分类号 |
G02B17/06(2006.01)I |
主分类号 |
G02B17/06(2006.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
屈蘅;李时云 |
主权项 |
一种全反射投影光学系统,以利用成像光线将位于物镜物平面内的图案投射到物镜像平面内,其包括位于物面之后该成像光线依次经过的第一至第四反射镜,其特征在于:该第一至第四反射镜构成双远心投影物镜结构,孔径光阑位于该第二反射镜上并关于光轴旋转对称,该第二反射镜位于第一反射镜焦点位置,并且该第三反射镜和第四反射镜将该孔径光阑的像成在像方无限远处;该第一、四反射镜位于光轴以上,离轴放置,该第三反射镜位于光轴以下,离轴放置,该第二反射镜位于光轴上,为旋转对称结构。 |
地址 |
201203 上海市张江高科技园区张东路1525号 |