发明名称 |
原子层沉积反应器 |
摘要 |
本发明公开了一种ALD反应器的反应室,其包括限定了反应室的内部部分(28)的底壁、顶壁和在底壁与顶壁之间延伸的侧壁。该反应器进一步包括一个或多个用于将气体送入反应室的送入口(30)和一个或多个用于将送入反应器的气体从反应室排出的排出口(40,50)。该反应室的特征在于,反应室的每个侧壁包括一个或多个送入口(30),在这种情况下,反应室的所有侧壁都参与气体交换。 |
申请公布号 |
CN101310043B |
申请公布日期 |
2010.12.22 |
申请号 |
CN200680042923.7 |
申请日期 |
2006.11.16 |
申请人 |
BENEQ有限公司 |
发明人 |
P·索伊尼宁;L·凯托 |
分类号 |
C23C16/455(2006.01)I;C23C16/00(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I;C30B25/00(2006.01)I;C30B25/04(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/455(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人 |
王会卿 |
主权项 |
一种原子层沉积反应器的反应室,包括底壁、顶壁和在底壁与顶壁之间延伸并限定了反应室的圆周的侧壁,所述底壁、顶壁和侧壁限定了反应室的内部部分(28),该反应器进一步包括一个或多个用于将气体送入反应室的送入口(30)和一个或多个用于将送入反应器的气体从反应室排出的排出口(40),其特征在于,送入口(30)和排出口(40)设置在由侧壁限定的圆周上,以便使得圆周的整个长度被分成送入部分和排出部分,从而沿着圆周的一部分将气体送入反应室并且沿着圆周的其它部分从反应室排出气体。 |
地址 |
芬兰万塔 |