发明名称 成膜装置和成膜方法
摘要 本发明提供一种成膜装置和成膜方法,该成膜装置包括:内部被保持为减压空间的处理容器;由以碳为主要成分的材料构成、用于在处理容器内保持基板的基板保持部;配置在处理容器的外侧、用于感应加热基板保持部的线圈;和以覆盖基板保持部、且从处理容器离开的方式配置的绝热部件。上述的减压空间被分离为用于供给成膜气体的成膜气体供给空间,和在基板保持部与处理容器之间被划分形成的绝热空间,绝热空间被供给冷却介质。
申请公布号 CN101568993B 申请公布日期 2010.12.22
申请号 CN200780047845.4 申请日期 2007.11.29
申请人 东京毅力科创株式会社;罗姆股份有限公司 发明人 森崎英介;小林洋克;吉川润;泽田郁夫;木本恒畅;川本典明;明田正俊
分类号 H01L21/205(2006.01)I;C23C16/42(2006.01)I;C23C16/46(2006.01)I 主分类号 H01L21/205(2006.01)I
代理机构 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人 龙淳
主权项 一种成膜装置,其特征在于,包括:内部被保持为减压空间的处理容器;由以碳为主要成分的材料构成,保持基板的基板保持部;配置在所述处理容器的外侧,对所述基板保持部进行感应加热的线圈;绝热部件保持构造体,构成为使覆盖所述基板保持部的绝热部件从所述处理容器离开而配置,该绝热部件保持构造体将所述减压空间分离为设置有所述基板保持部和所述绝热部件的成膜气体供给空间、和在所述处理容器与所述绝热部件之间被划分形成的绝热空间;向所述成膜气体供给空间供给成膜气体的气体供给机构;和向所述绝热空间供给冷却气体的气体线路。
地址 日本国东京都