清洗基片的方法与装置

摘要

使用激光束清洗基片的方法与装置中，内室设在处理室中以界定出其中生成激光诱导冲击波的空间。所述激光束聚焦在位于所述内室中的激光焦点上，由此绕所述激光焦点生成所述激光诱导等离子冲击波。所述等离子冲击波从所述内室的内表面反射，并且经由所述内室的下部辐照在所述基片上。从而，辐照在所述基片上的所述等离子冲击波的强度得以增大，由此有效去除所述基片上的杂质。

主权项

一种清洗基片的方法，所述方法包括：生成激光束；将所述激光束聚焦在激光焦点上以生成等离子冲击波，所述激光焦点位于所述基片的上方的内室中；在所述内室中聚集所述等离子冲击波；所述内室的下部连接于靠近所述基片的冲击波辐照器，将所述经聚集的等离子冲击波通过所述冲击波辐照器辐照在所述基片上以从所述基片去除杂质；及控制所述冲击波辐照器以调节辐照到所述基片上的等离子冲击波的强度。