发明名称 二胺化合物、液晶取向处理剂及使用了该处理剂的液晶显示元件
摘要 本发明提供可获得电压保持率高且即使长时间暴露于高温下后因直流电压而蓄积的残留电荷的释放也很快的液晶取向膜的液晶取向处理剂,该液晶取向处理剂包含的聚酰胺酸及/或聚酰亚胺(以下也称为聚合物),可用作为该聚酰胺酸及聚酰亚胺的原料的二胺化合物及具备该液晶取向膜的、在严酷的使用环境下可长时间使用的可靠性高的液晶显示元件。下式[1]表示的二胺化合物,<img file="200980103189.4_AB_0.GIF" wi="280" he="71" />;式[1]中,X<sub>1</sub>为选自-O-、-NQ<sup>1</sup>-、-CONQ<sup>1</sup>-、-NQ<sup>1</sup>CO-、-CH<sub>2</sub>O-及-OCO-的至少1种2价有机基团,Q<sup>1</sup>为氢原子或碳数1~3的烷基,X<sub>2</sub>为单键或选自碳数1~20的脂肪族烃基、非芳香族环式烃基及芳香族烃基的至少1种2价有机基团,X<sub>3</sub>为单键或选自-O-、-NQ<sup>2</sup>-、-CONQ<sup>2</sup>-、-NQ<sup>2</sup>CO-、-COO-、-OCO-及-O(CH<sub>2</sub>)<sub>m</sub>-的至少1种2价有机基团,其中的m为1~5的整数,Q<sup>2</sup>为氢原子或碳数1~3的烷基,X<sub>4</sub>为含氮芳杂环,n为1~4的整数。
申请公布号 CN101925634A 申请公布日期 2010.12.22
申请号 CN200980103189.4 申请日期 2009.01.23
申请人 日产化学工业株式会社 发明人 南悟志;后藤耕平;须贺贵裕;北浩
分类号 C08G73/10(2006.01)I;C07D213/30(2006.01)I;C07D213/36(2006.01)I;C07D213/40(2006.01)I;C07D213/55(2006.01)I;C07D213/80(2006.01)I;C07D213/82(2006.01)I;G02F1/1337(2006.01)I 主分类号 C08G73/10(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 刘多益;胡烨
主权项 1.下式[1]表示的二胺化合物,<img file="FPA00001186317800011.GIF" wi="1136" he="267" />式[1]中,X<sub>1</sub>为选自-O-、-NQ<sup>1</sup>-、-CONQ<sup>1</sup>-、-NQ<sup>1</sup>CO-、-CH<sub>2</sub>O-及-OCO-的至少1种2价有机基团,Q<sup>1</sup>为氢原子或碳数1~3的烷基,X<sub>2</sub>为单键或选自碳数1~20的脂肪族烃基、非芳香族环式烃基及芳香族烃基的至少1种2价有机基团,X<sub>3</sub>为单键或选自-O-、-NQ<sup>2</sup>-、-CONQ<sup>2</sup>-、-NQ<sup>2</sup>CO-、-COO-、-OCO-及-O(CH<sub>2</sub>)<sub>m</sub>-的至少1种2价有机基团,其中的m为1~5的整数,Q<sup>2</sup>为氢原子或碳数1~3的烷基,X<sub>4</sub>为含氮芳杂环,n为1~4的整数。
地址 日本东京