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发明名称
Thin-film deposition apparatus which has high gas conductance
摘要
申请公布号
KR101002942(B1)
申请公布日期
2010.12.21
申请号
KR20040033124
申请日期
2004.05.11
申请人
发明人
分类号
H01L21/205
主分类号
H01L21/205
代理机构
代理人
主权项
地址
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