Method of forming isolation layer in semiconductor device,申请号KR20070102159-传众专利搜索

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发明名称	Method of forming isolation layer in semiconductor device
摘要
申请公布号	KR101002548(B1)	申请公布日期	2010.12.17
申请号	KR20070102159	申请日期	2007.10.10
申请人		发明人
分类号	H01L21/76	主分类号	H01L21/76
代理机构		代理人
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