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发明名称 CYCLIC COMPOUND, PHOTORESIST BASE MATERIAL, AND PHOTORESIST COMPOSITION
摘要 <p>A cyclic compound represented by formula (I).</p>
申请公布号 WO2010143436(A1) 申请公布日期 2010.12.16
申请号 WO2010JP03872 申请日期 2010.06.10
申请人 IDEMITSU KOSAN CO.,LTD.;KASHIWAMURA, TAKASHI;YOMOGITA, AKINORI;OWADA, TAKANORI;SHIOTANI, HIDEAKI 发明人 KASHIWAMURA, TAKASHI;YOMOGITA, AKINORI;OWADA, TAKANORI;SHIOTANI, HIDEAKI
分类号 C07C69/76;G03F7/004;G03F7/039 主分类号 C07C69/76
代理机构 代理人
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